誰(shuí)能介紹下光刻的工序呢?

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目的:a、完全蒸發(fā)掉光刻膠里面的溶劑(以免在污染后續的離子注入環(huán)境印刷工序介紹,例如DNQ酚醛樹(shù)脂光刻膠中的氮會(huì )引起光刻膠局部爆裂);b、堅膜,以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力;c、進(jìn)一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性;d、進(jìn)一步減少駐波效應(StandingWaveEffect)

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誰(shuí)能介紹下光刻的工序呢? 期待您的回復!

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